オウィス 大規模なポートフォリオを提供します 真空技術 の 高真空 （HV）、約 超高真空 （UHV）まで 非常に高い真空 （XHV）。 それは、最大10の圧力範囲のポジショナーと光学部品から始まります-6 mbar。 2017年、同社はUHVを10に拡大しました-9 可能なアプリケーションの大幅な拡張のための新しい超高真空製品でmbar。 最後になりましたが、XHV製品のノウハウは過去数年間で10の分野で増加しています-11 mbarはうまくいきました。
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高真空HV製品
Owisは高真空アプリケーション向けのポートフォリオを提供しています 光ビーム誘導システム および10のアプリケーションに使用される位置決めシステム-6 mbarは設計されています。
すべての部品はむき出しできれいにされており、 クリーンルームに搭載 と測定。 止まり穴は通気されています。 NS ボールねじ 細目ねじのスピンドルとガイドには HV グリースが充填されており、V6 ホール効果スイッチまたは機械式リミット スイッチまたはリファレンス スイッチが装備されています。
超高真空UHV製品
超高真空製品の製造では、最高水準への準拠に注意が払われています。 すべてのUHV製品は作られています 真ちゅう合金なし 生産。 また、コーティングされていない裸の状態の材料のみが使用されます。 仮想リークを回避するために、すべての止まり穴も通気されています。 個々の部品は事前に注意深く洗浄された後、ISOクラス5のクリーンルームで組み立て、測定、梱包されます。 これにより、製品が汚れ分子によって汚染されないことが保証されます。
超高真空製造用の製品の範囲には、たとえばビームデリバリーシステムの分野から始まる、ほぼすべての製品範囲が含まれます システムレールと光学ホルダー、手動および電動ポジショナーへ。 制限値に準拠するために、特別な超高真空が電動バリアントで使用されています エンジン 中古。 標準製品は、制限または参照スイッチなしで提供されますが、要求に応じてUHV互換スイッチを装備することもできます。
超高真空製品は真空チャンバー内に配置する必要があります 気温80°C前後 最大12時間の加熱サイクル後に焼き出し、測定します。 0未満の圧力で100〜10uの質量スペクトルがあります-7 mbarが追加されました。 45〜100 uの範囲のピーク値は、0〜44uの範囲の真空の最大質量ピークをXNUMX年以上下回っています。
超高真空XHV製品
最新の成果は、超高真空XHVの分野でのポートフォリオです。 Owisは、過去数年間で適切なノウハウと必要なスキルを習得しています。 インフラストラクチャです。 第10部門に真空製品を提供するために開発されました-11 mbarを実現します。
利用される ニッケルメッキアルミニウム部品 XHVに適しています プラスチック, セラミックス そして太った。 ここでも止まり穴から通気が行われます。 XHVが適しています プラグ 電動テーブルに取り付けられています。 リミットスイッチとリファレンススイッチはご要望に応じてご利用いただけます。 他のすべての真空製品と同様に、XHV もクリーン ルームで洗浄、測定、組み立てが行われ、安全に梱包され、ホイルで二重密封されて納品されます。